반도체 제조 공정에서 내식제 재료는 리소그래피에 사용됩니다.이들은 실리콘 시트에 있는 필름으로 사용되며, 웨이퍼에 있는 패턴을 정의하는 데 필수적인 성질을 가지고 있습니다.항식제 재료의 선택은 노출원의 파장에 따라 달라지는 반면, 157nm 리소그래피의 경우 재료가 낮은 흡수와 우수한 용해 특성을 가지고 있어야 한다.
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3-(BICYCLO[2.2.1]HEPT-5-EN-2-YL)-1,1,1-TRIFLUORO-2-(TRIFLUOROMETHYL)PROPAN-2-OL