입체 제어를 위해 가능한 한 수성 시작 재료를 사용합니다.손성조제, 손성 촉매 또는 손성 리간드는 입체 센터를 고선택적으로 도입하는 데 사용할 수 있습니다.
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2-Cyclohexen-1-one, 6-acetyl-2-methyl-5-(1-methylethenyl)-, (5S)-
(2S,6S,8R)-8-methyl-2-tosyloxymethyl-1,7-dioxaspiro<5.5>undecane
C23H29NO3
(1S,4R,7R,8S)-7-(4-bromophenyl)-5,5-dimethyl-8-nitrobicyclo[2.2.2]octan-2-one
[2-((1R,3aS,4S,7aR)-6-Methoxy-4-methyl-hexahydro-furo[3,4-c]pyran-1-ylethynyl)-phenyl]-carbamic acid ethyl ester