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사염화규소메이커 CAS 레지스트리 번호10026-04-7공급업체 | LookChem

사염화규소

기본 정보 Edit
  • 표준명:사염화규소
  • CAS 레지스트리 번호:10026-04-7
  • 분자식:CL4Si
  • 분자 무게:169.898
  • HS 코드:2812 19 90
  • Mol 파일:10026-04-7.mol
사염화규소

동의어:

관련 CAS 번호: 1000017-93-5 1000017-94-6 1000017-95-7 1000017-98-0 1000018-03-0 1000018-06-3 1000018-13-2 1000018-17-6 1000018-21-2 1000018-25-6

표준명의 마케팅 및 가격
제조업체 및 유통업체:
  • 제조/브랜드
  • 화학물질 및 원자재
  • 포장
  • 가격
  • Usbiological
  • Tetrachlorosilane
  • 100g
  • $ 305.00
  • TRC
  • Tetrachlorosilane
  • 5g
  • $ 45.00
  • TCI Chemical
  • Tetrachlorosilane >98.0%(T)
  • 500g
  • $ 45.00
  • TCI Chemical
  • Tetrachlorosilane >98.0%(T)
  • 100g
  • $ 34.00
  • TCI Chemical
  • Tetrachlorosilane >98.0%(T)
  • 25g
  • $ 20.00
  • Strem Chemicals
  • Silicon(IV) chloride, fiber optic grade (99.9999%-Si, 50ppm-Fe) PURATREM
  • 100g
  • $ 68.00
  • Strem Chemicals
  • Silicon(IV) chloride, fiber optic grade (99.9999%-Si, 50ppm-Fe) PURATREM, 98-0147, contained in a 50 ml electropolished Swagelok(R) cylinder (96-1077) for CVD/ALD
  • 50g
  • $ 1085.00
  • Strem Chemicals
  • Silicon(IV) chloride, fiber optic grade (99.9999%-Si, 50ppm-Fe) PURATREM
  • 500g
  • $ 272.00
  • Sigma-Aldrich
  • Silicon tetrachloride packaged for use in deposition systems
  • 25ml
  • $ 1180.00
  • Sigma-Aldrich
  • Silicon tetrachloride 99.998% trace metals basis
  • 100ml
  • $ 93.20
총 30 개 원재료 공급업체
표준명의 화학적 성질 Edit
물리적 데이터:
안전정보:
  • 픽토그램: CorrosiveC,IrritantXi
  • 위험 코드: C,Xi
  • 진술: 20/21/22-34-40-36/37/38-14
  • 안전 선언문: S26-S7/8
사용:
  • 소개 및 적용: 사염화규소(SiCl4)는 1823년 Berzelius가 처음으로 제조한 화학 물질로, 순수한 실리콘과 실리콘 계 화합물인 실리콘 석유 등의 제조에 널리 사용됩니다. 또한, 전쟁 중에 연막을 생성하기 위해 사용되기도 합니다. 사염화규소는 고순도 실리콘의 중간체로 사용되어 반도체 산업과 광발전 세포에서 주요한 응용을 가질 수 있습니다. 또한, 광섬유의 제조에도 사용됩니다. 사염화규소는 실리콘 화합물인 철실리콘이나 실리콘 카비드를 숯산가스와 가열하거나, 실리콘二氧化物와 탄소를 숯산가스 속에서 가열하여 제조할 수 있습니다. Industries such as the semiconductor and pharmaceutical industries utilize silicon tetrachloride and chlorosilanes as important chemical intermediates. Tetrachlorosilane can be used as a coupling agent for the synthesis of amine from carboxylic acid and an amide, and is also used in the preparation of high purity silicon for photovoltaic cells and semiconductors. Chlorosilanes react with water, moist air, and steam, producing heat and toxic, corrosive hydrogen chloride fumes, and should be handled with caution.
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